掃描電鏡（SEM）完全支持對同一位置進行多種模式的掃描成像。這是它的一大優(yōu)勢，尤其適合材料、電子、地質(zhì)、生物等領(lǐng)域的綜合分析。以下是幾種常見模式及其組合方式：

常見可組合的掃描模式

二次電子像（SE，Secondary Electron）

特點：表現(xiàn)表面形貌細節(jié)；

用途：觀察樣品表面結(jié)構(gòu)、顆粒、裂紋等。

背散射電子像（BSE，Backscattered Electron）

特點：對原子序數(shù)敏感，顯示成分差異；

用途：金屬間對比、合金成分區(qū)分。

X射線能譜分析（EDS 或 EDX）

特點：元素分析，識別組成成分；

用途：檢測樣品的化學元素種類和分布。

電子背散射衍射（EBSD）

特點：晶體結(jié)構(gòu)和取向信息；

用途：晶粒尺寸、取向分析、織構(gòu)研究。

陰極熒光（CL）

特點：某些材料受電子束激發(fā)后發(fā)光；

用途：地質(zhì)樣品中的礦物分布研究。

電流成像（EBIC）、電位成像（KFM）等高級模式

如何在同一位置執(zhí)行多種掃描模式

步驟通常為：

鎖定目標區(qū)域（利用樣品臺的定位功能）；

首先用 SE 模式對區(qū)域成像并聚焦；

切換到 BSE 模式繼續(xù)觀察或采圖；

如需化學分析，執(zhí)行 EDS 點分析、線掃或面掃；

若設(shè)備支持 EBSD 等，可接著無縫進行（但需高真空、高角度）。

以上就是澤攸科技小編分享的掃描電鏡是否可以給同一位置做多種模式掃描的介紹。